2 GHz 대역 RF 대역통과 필터 응용을 위한 AlN 압전 박막을 이용한 FBAR 소자FBAR Device with Thin AlN Piezoelectric Film for 2 GHz RF Bandpass Filter Applications

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 697
  • Download : 0
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.author윤기완ko
dc.contributor.author임문혁ko
dc.contributor.author김종헌ko
dc.contributor.author채동규ko
dc.date.accessioned2013-03-03T10:20:47Z-
dc.date.available2013-03-03T10:20:47Z-
dc.date.created2012-02-06-
dc.date.created2012-02-06-
dc.date.issued2003-03-
dc.identifier.citation한국정보통신학회논문지, v.7, no.2, pp.250 - 254-
dc.identifier.issn2234-4772-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/78354-
dc.description.abstract본 논문에서는 2GHz 대역 RF 대역통과 필터 응용을 위한 FBAR 소자에 대한 연구를 발표한다. 본 연구의 FBAR 소자는 크게 상부 및 하부 전극 사이에 압전체(AlN)가 삽입되어 있는 공진부와 SiO2/W 이 여러층으로 적층되어 있는 음향반사층 두 부분으로 구성되어 있다. RF sputtering 방법으로 증착된 AlN 박막은 c축이 기판에 수직한 정도가 우수한 c축 우선 배향성을 갖는다. 이때 결정립(grain)은 길고 얇은 주상형(columnar)을 보인다. 뿐만아니라, 우수한 품질계수(4300)와 반사손실(37.19 dB)도 얻어졌다.-
dc.languageKorean-
dc.publisher한국정보통신학회-
dc.title2 GHz 대역 RF 대역통과 필터 응용을 위한 AlN 압전 박막을 이용한 FBAR 소자-
dc.title.alternativeFBAR Device with Thin AlN Piezoelectric Film for 2 GHz RF Bandpass Filter Applications-
dc.typeArticle-
dc.type.rimsART-
dc.citation.volume7-
dc.citation.issue2-
dc.citation.beginningpage250-
dc.citation.endingpage254-
dc.citation.publicationname한국정보통신학회논문지-
dc.identifier.kciidART000880299-
dc.contributor.localauthor윤기완-
dc.contributor.nonIdAuthor임문혁-
dc.contributor.nonIdAuthor김종헌-
dc.contributor.nonIdAuthor채동규-
dc.subject.keywordAuthorFBAR-
dc.subject.keywordAuthorAlN film-
dc.subject.keywordAuthorMultilayer Reflector-
dc.subject.keywordAuthorReturn Loss-
dc.subject.keywordAuthorQuality Factor-
Appears in Collection
EE-Journal Papers(저널논문)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0