Showing results 1 to 3 of 3
Effect of process conditions on the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2 권성구; 김도현, KMRS Fall Symposium, pp.152 - 153, 1996-11 |
가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향 권성구; 김도현, KIChE Fall meeting, v.2, no.2, pp.2515 - 2518, 1996-10 |
자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구 권성구; 백종태; 김도현, 화학공학의 이론과 응용, pp.3137 - 3140, 1997-10 |
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