실리콘 양극 산화방법에 의한 실리콘내의 보론과 아세닉 확산분포의 측정
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 박형무 | ko |
| dc.contributor.author | 김충기 | ko |
| dc.date.accessioned | 2013-02-25T04:07:04Z | - |
| dc.date.available | 2013-02-25T04:07:04Z | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.issued | 1981-02 | - |
| dc.identifier.citation | 전자공학회지, v.18, no.1, pp.7 - 19 | - |
| dc.identifier.issn | 1975-2377 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/59723 | - |
| dc.language | Korean | - |
| dc.publisher | 대한전자공학회 | - |
| dc.title | 실리콘 양극 산화방법에 의한 실리콘내의 보론과 아세닉 확산분포의 측정 | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.type.rims | ART | - |
| dc.citation.volume | 18 | - |
| dc.citation.issue | 1 | - |
| dc.citation.beginningpage | 7 | - |
| dc.citation.endingpage | 19 | - |
| dc.citation.publicationname | 전자공학회지 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박형무 | - |
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