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A novel molecular resist for EUV lithography = 극 자외선 리소그래피용 분자 레지스트에 관한 연구link Jeong, Sun-Hwa; 정선화; et al, 한국과학기술원, 2013 |
Polymeric and molecular resists for short wavelength lithography = 단파장 리소그라피용 고분자 및 분자 레지스트link Yun, Hyo-Jin; 윤효진; et al, 한국과학기술원, 2002 |
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