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Non-shrinkable and nanomolecular resists for DUV lithography = 비수축성 레지스트와 나노분자 레지스트에 관한 연구link Oh, Tae-Hwan; 오태환; et al, 한국과학기술원, 2006 |
Synthesis of methacrylate polymers substituted with cholic acid derivatives with polar spacer and their lithographic application = 담즙산 유도체를 포함하고 극성 사슬을 갖는 메타크릴 공중합체의 합성과 포토레지스트로서의 응용link Oh, Tae-Hwan; 오태환; et al, 한국과학기술원, 2002 |
포토레지스트 형성용 화합물, 이를 포함하는 저분자포토레지스트 조성물 및 패턴 형성 방법 김경미; 김영호; 김진백; 오태환, 2007-10-19 |
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