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Micro-lithography 를 위한 4 구면경계의 설계 및 수차해석 = Optical CAD and analyses of four spherical mirror system for micro-lithographylink 조영민; Cho, Young-Min; et al, 한국과학기술원, 1991 |
모든 3차 수차를 제거하여 회절한계의 성능을 지닌 극자외선 lithography용 4-반사경 광학계(배율 = 1)link 조영민; Cho, Young-Min; 공홍진; 이상수; et al, 한국과학기술원, 1994 |
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