학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 2003.2, [ vii, 90 p. ]
Si-O-N 박막; a-Si 박막; 위상 변위 막; 157 nm 리소그패피; 광학 특성; optical properties; Si-O-N thin film; a-Si thin film; phase shift mask; 157nm lithography
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