Ti 증착 조건이 Ti 박막의 잔류 응력 및 Ti 실리사이드 형성에 미치는 영향에 관한 연구Study on the effects of Ti deposition conditions on the residual stress of Ti thin film and on Ti silicide formation
- Advisors
- 박중근researcher; Park, Joong-Keunresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 재료공학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 1995
- Identifier
- 99480/325007 / 000933408
- Language
- kor
- Description
학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 1995.2, [ 56 p. ]
- Keywords
투과 전자 현미경
- Appears in Collection
- MS-Theses_Master(석사논문)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.