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(A) study on improved nanolithography process in PS-b-PMMA block copolymer system = PS-b-PMMA 블록공중합체 시스템의 향상된 나노리소그래피 공정에 대한 연구link Choi, Young Joo; 최영주; Kim, Sang Ouk; 김상욱; et al, 한국과학기술원, 2017 |
Synthesis of acrylate polymers with acid labile organosilicon protecting groups and their application as dry-developable photoresists for ArF lithography = 산촉매에 의해 분해되는 유기 실리콘기를 측쇄에 함유하는 아크릴레이트계 공중합체의 합성과 아르곤 플루오라이드 리소그라피용 건식현상형 포토레지스트로서의 응용link Kim, Hyun-Woo; 김현우; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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