반응 $CH_3+HCl$ 의 포텐샬에너지 표면과 반응속도 상수 계산Calculation of the potential energy surface and reaction rate constatnt of $CH_3+HCl$
$CH_3 + HCl → CH_4 + Cl$ 반응 포텐샬에너지 표면이 analytical하게 제안되었다. 이 반응 포텐샬에너지 표면은 수정된 Raff 표면에 기반을 두고 있다. 이 표면을 기반으로 varational transition state 이론을 적용하여 반응 속도를 구했다. 계산된 반응속도는 실제 실험치와 만족할 수준에서 일치했다.
- Advisors
- 이태억researcher; Lee, Eok-Kyunresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 화학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 1997
- Identifier
- 112772/325007 / 000953011
- Language
- kor
- Description
학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 화학과, 1997.2, [ iv, 37 p. ]
- Keywords
변화; 반응속도; 반응포텐샬표면; Potential enegy surface; VTST; Variation; Reaction rate
- Appears in Collection
- CH-Theses_Master(석사논문)
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