본 발명은 투명 전도성 네트워크를 형성함에 있어서 나노선 간의 접촉저항을 배제함과 함께 투명 전도성 네트워크의 표면거칠기를 최소화함으로써 투명 전도성 네트워크의 전기적 특성 및 광학적 특성을 향상시킴과 함께 마스터몰드 상의 투명 전도성 네트워크를 기판에 전사하는 방법을 적용함으로써 대면적의 투명전극을 용이하게 형성시킬 수 있는 마스터몰드를 이용한 투명 전도성 네트워크 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 마스터몰드를 이용한 투명 전도성 네트워크 제조방법은 양각 패터닝된 전도성 네트워크 전사영역을 구비하는 마스터몰드를 준비하는 단계; 마스터몰드 상에 전도성 물질을 코팅하는 단계; 및 전도성 네트워크 전사영역에 코팅된 전도성 물질을 적용대상기판 상에 전사하여 적용대상기판 상에 전도성 네트워크를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.