플로팅 게이트 기반 3 단자 아날로그 시냅스 소자 및 제조 방법A floating gate based 3-terminal analog synapse device and a manufacturing method thereof

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dc.contributor.author최신현ko
dc.contributor.author김범진ko
dc.contributor.author김태룡ko
dc.contributor.author박시온ko
dc.date.accessioned2024-04-23T10:00:44Z-
dc.date.available2024-04-23T10:00:44Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/319207-
dc.description.abstract실리콘채널층; 상기 실리콘채널층 상에 증착된 게이트산화물; 상기 게이트산화물 상에 증착되어 전하가 주입되는 전하저장층; 상기 전하저장층 상에 증착되고, 상기 전하저장층 물질의 전자친화도보다 낮은 전자친화도를 갖는 배리어층; 및 상기 배리어층의 상부면에 증착되어 게이트 전압이 인가되는 게이트금속층;을 포함하는 플로팅 게이트 기반 3 단자 아날로그 시냅스 소자가 제공된다.-
dc.title플로팅 게이트 기반 3 단자 아날로그 시냅스 소자 및 제조 방법-
dc.title.alternativeA floating gate based 3-terminal analog synapse device and a manufacturing method thereof-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor최신현-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2021-0158208-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2617104-0000-
dc.date.application2021-11-17-
dc.date.registration2023-12-19-
dc.publisher.countryKO-
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EE-Patent(특허)
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