블록공중합체-결합 양자점 전구체 및 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 및 양자점 패턴block copolymer-conjugated quantum dot precursor and quantum dot nanostructure and quantum dot pattern using laser induced annealing

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본 발명은 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체 및 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 및 양자점 패턴에 관한 것으로, 양자점 전구체 및 블록공중합체를 포함하여 이루어지고, 상기 블록공중합체는 발광효율을 높이기 위해 상기 양자점 전구체와 화학적으로 배위결합하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 제공하고, 또한 양자점 전구체를 준비하고, 블록공중합체를 준비하고, 상기 양자점 전구체와 상기 블록공중합체가 화학적으로 결합하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 형성하고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체를 기재에 도포하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체 필름을 형성하고, 상기 필름을 어닐링하여 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체가 양자점을 합성함과 동시에 자기조립현상(self-assembly)을 통해 양자점 나노구조체를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체는 본 발명에 따른 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 전구체이고, 상기 어닐링은 상기 필름에 레이저 조사를 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노구조체 제조 방법을 제공한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2015-10-14
Application Number
10-2015-0143604
Registration Date
2017-10-17
Registration Number
10-1789380-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/318140
Appears in Collection
MS-Patent(특허)
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