고분자 박막이 코팅된 소수성 기판을 이용한 뇌 아교세포 분리 배양 방법Isolation method of glial cells using polymer thin film-coated hydrophobic substrate

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dc.contributor.author신현정ko
dc.contributor.author박은영ko
dc.contributor.author임성갑ko
dc.contributor.author이은정ko
dc.contributor.author이민석ko
dc.date.accessioned2023-10-13T06:00:45Z-
dc.date.available2023-10-13T06:00:45Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/313303-
dc.description.abstract본 발명은 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)으로 배양 기판에 고분자 박막이 코팅된 소수성 기판을 이용하여 혼합된 아교세포를 분리 배양하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 iCVD 공정을 이용한 메타아크릴레이트계 화합물 또는 환형 실록산계 화합물 고분자 박막이 코팅된 배양 기판으로 아교세포를 배양함으로써 단일세포인 미세아교세포, 성상세포 및 희소돌기아교세포로 구성된 3차원 세포 덩이인 스페로이드로 정밀하고 높은 효율로 분리할 수 있다.-
dc.title고분자 박막이 코팅된 소수성 기판을 이용한 뇌 아교세포 분리 배양 방법-
dc.title.alternativeIsolation method of glial cells using polymer thin film-coated hydrophobic substrate-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor신현정-
dc.contributor.localauthor임성갑-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2021-0016129-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2573231-0000-
dc.date.application2021-02-04-
dc.date.registration2023-08-28-
dc.publisher.countryKO-
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