화학기상증착 그래핀 합성법을 이용한 구리 나노 주름 구조체의 제조방법Method of Preparing Cu Nanowrinkle Structure by Using Chemical Vapor Deposition (CVD) Graphene-Growth Process

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화학기상증착 그래핀 합성법을 이용한 구리 나노 주름 구조체의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학기상증착(CVD) 그래핀 합성법을 활용하여 구리 필름 표면을 스텝 사이트 밀도가 높고 높은 면 원자 배열의 나노 주름 구조체를 제조하고, 상기 제조된 나노 주름 구조체는 이산화탄소 전환 반응 전기촉매로 유용하다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2021-02-26
Application Number
10-2021-0026265
Registration Date
2022-11-29
Registration Number
10-2473602-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/303001
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
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