硫黄を開始剤として使用した化学気相蒸着（ｓＣＶＤ）を用いた高分子膜とその製造方法及び製造装置황을 개시제로서 사용한 화학기상증착(sCVD)을 이용한 고분자 막의 제조방법
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임성갑 | ko |
| dc.contributor.author | 김도흥 | ko |
| dc.contributor.author | 장원태 | ko |
| dc.contributor.author | 최건우 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-09-15T08:00:13Z | - |
| dc.date.available | 2022-09-15T08:00:13Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/298552 | - |
| dc.description.abstract | 本発明は気相状態の硫黄を開始剤として使用し、硫黄と単量体の高分子重合によって高分子膜を製造する、硫黄を開始剤として使用した化学気相蒸着(sCVD)を用いた高分子膜の製造方法に関するものであり、前記製造された高分子膜は多様な単量体を硫黄と共重合体から重合することができ、硫黄含量が高く、屈折率及び透明度に優れた高分子膜を製造することができる。 | - |
| dc.title | 硫黄を開始剤として使用した化学気相蒸着（ｓＣＶＤ）を用いた高分子膜とその製造方法及び製造装置 | - |
| dc.title.alternative | 황을 개시제로서 사용한 화학기상증착(sCVD)을 이용한 고분자 막의 제조방법 | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 임성갑 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김도흥 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 장원태 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 최건우 | - |
| dc.contributor.assignee | KAIST | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 2020-570153 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 7089073 | - |
| dc.date.application | 2020-09-15 | - |
| dc.date.registration | 2022-06-13 | - |
| dc.publisher.country | JA | - |
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