측정 패턴 구조체, 보정 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법MEASURING PATTERN STRUCTURE, ADJUSTMENT STRUCTURE, AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
본 발명은 측정 패턴 구조체, 보정 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 위치에 따라 다르게 기판 하부 공정 변수를 기판에 제공하는 측정 패턴 구조체를 형성하는 단계, 처리 용기에서 측정 패턴 구조체 상에 배치된 기판을 처리하는 단계, 측정 패턴 구조체의 위치에 따라 기판의 최적 공정 결과를 선택하는 단계, 최적 공정 결과에 대응하는 측정 패턴 구조체의 구조를 보정 구조체에 전사(transfer)하는 단계, 및 보정 구조체를 이용하여 처리 용기에서 기판을 처리하는 단계를 포함한다.에너지 인가 구조체, 기판, 에너지 전달 효율, 측정 패턴 구조체, 보정 구조체
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2009-03-06
- Application Number
- 10-2009-0019090
- Registration Date
- 2012-02-14
- Registration Number
- 10-1118684-0000
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.