개시제를 이용한 화학기상증착장치initiated chemical vapor deposition apparatus

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본 발명은 개시제를 이용한 화학기상증착장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 재료소비를 절감하고, 균질한 대면적의 박막을 형성할 수 있는 화학기상증착장치 관한 것이다. 본 발명의 개시제를 이용한 화학기상증착장치는 내부에 기판이 장입되는 챔버; 상기 챔버 내부에 위치하며, 제1이격거리(d1)로 상기 기판과 이격되고 기상의 유기단량체 및 개시제를 상기 기판에 공급하는 상부노즐과, 상기 제1이격거리(d1)보다 짧은 제2이격거리(d2)로 상기 기판과 이격되고 기상의 금속 전구체를 상기 기판에 공급하는 하부노즐을 포함하는 이중샤워헤드부; 및 상기 상부노즐과 상기 기판 사이에 위치하며, 상기 상부노즐로부터 공급되는 개시제를 가열하는 열원;을 포함할 수 있다.
Assignee
한국과학기술원,(주)아이작리서치
Country
KO (South Korea)
Application Date
2020-06-29
Application Number
10-2020-0079231
Registration Date
2022-08-23
Registration Number
10-2437018-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/298351
Appears in Collection
EE-Patent(특허)
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