블록 공중합체를 이용한 미세 패턴의 형성 방법Method of forming fine pattern using a block copolymer
본 발명은 에칭 선택성이 우수한 블록 공중합체를 이용함으로써 LER 및 LWR을 최소화하여 고품질의 나노 패턴을 형성할 수 있는 미세 패턴의 형성 방법에 관한 것이다.
- Assignee
- 에스케이이노베이션 주식회사,한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2017-09-20
- Application Number
- 10-2017-0121027
- Registration Date
- 2022-06-17
- Registration Number
- 10-2412137-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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