블록 공중합체로 형성되는 마이셀 고분자 보호막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 마이셀 고분자 보호막으로 둘러싸인 양자점MANUFACTURE METHOD OF MICELLAR POLYMER PROTECTIVE LAYER USING BLOCK COPOLYMER AND QUANTUM DOT USED THEREBY

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dc.contributor.author정연식ko
dc.contributor.author조남명ko
dc.date.accessioned2021-09-28T08:30:31Z-
dc.date.available2021-09-28T08:30:31Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/287944-
dc.description.abstract본 발명은 블록 공중합체로 형성되는 마이셀 고분자 보호막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 마이셀 고분자 보호막으로 둘러싸인 양자점에 관한 것으로, 양자점을 준비하는 단계 및 상기 양자점을 포함하는 블록 공중합체의 제1 반복 단위 및 제2 반복 단위 구성의 상호 작용 차이로 블록 공중합체 교질 입자를 형성하여 상기 양자점을 둘러싸는 상기 블록 공중합체 마이셀 고분자 보호막을 제조하는 단계를 포함하되, 상기 블록 공중합체 마이셀 고분자 보호막을 제조하는 단계는 제1 용매를 이용하여 상기 제1 반복 단위 및 상기 제2 반복 단위와 상기 양자점을 녹인 후, 제2 용매를 이용하여 상기 제1 반복 단위 및 상기 제2 반복 단위의 용매 조성을 바꿔주어 상기 양자점을 둘러싸는 블록 공중합체 마이셀 고분자 보호막을 제조하는 것을 특징으로 한다.-
dc.title블록 공중합체로 형성되는 마이셀 고분자 보호막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 마이셀 고분자 보호막으로 둘러싸인 양자점-
dc.title.alternativeMANUFACTURE METHOD OF MICELLAR POLYMER PROTECTIVE LAYER USING BLOCK COPOLYMER AND QUANTUM DOT USED THEREBY-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor정연식-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2019-0020826-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2303927-0000-
dc.date.application2019-02-22-
dc.date.registration2021-09-14-
dc.publisher.countryKO-
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