중공입자 제조용 조성물, 이에 의해 제조된 중공입자 및 중공입자의 제조방법Composition for preparing hollow particles, hollow particles using the same and method of manufacturing the hollow particles
본 발명은 코아세르베이트법을 통해 안정적으로 중공입자를 형성하기 위한 조성물, 이에 의해 제조된 중공입자 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 우수한 코아세르베이트 형성능으로 단분산성의 중공입자를 안정적으로 제공하여 화장품, 도료, 플라스틱, 고무, 합성목재, 내화재, 농약 담지체 등의 다양한 분야의 담지체로 유용하게 활용될 수 있을 것으로 기대된다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2019-10-02
- Application Number
- 10-2019-0121927
- Registration Date
- 2021-09-13
- Registration Number
- 10-2303560-0000
- Appears in Collection
- CH-Patent(특허)
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