농도 구배를 가지는 블록을 포함한 이중 블록 공중합체 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법Diblock copolymer containing gradient random-copolymer block and method for forming fine pattern using diblock copolymer
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 정연식 | ko |
| dc.contributor.author | 송승원 | ko |
| dc.contributor.author | 허윤형 | ko |
| dc.date.accessioned | 2021-09-10T06:30:14Z | - |
| dc.date.available | 2021-09-10T06:30:14Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/287716 | - |
| dc.description.abstract | 농도 구배를 가지는 블록을 포함한 이중 블록 공중합체 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 블록 공중합체는 제1 블록; 및 농도 구배(gradient)를 가지는 랜덤 공중합체(random copolymer)를 포함하는 제2 블록을 포함하며, 상기 제1 블록은 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)를 포함하고, 상기 제2 블록은 스타이렌(S)과 펜타플루오로스티렌(PFS) 농도 구배를 가지는 랜덤 공중합체를 포함할 수 있다. | - |
| dc.title | 농도 구배를 가지는 블록을 포함한 이중 블록 공중합체 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법 | - |
| dc.title.alternative | Diblock copolymer containing gradient random-copolymer block and method for forming fine pattern using diblock copolymer | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 정연식 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 송승원 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 허윤형 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2019-0123075 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2299644-0000 | - |
| dc.date.application | 2019-10-04 | - |
| dc.date.registration | 2021-09-02 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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