기상 증착공정을 이용한 갭필링 방법 및 그 장치GAP FILLING METHOD USING VAPOR DEPOSITION PROCESS AND THE APPARATUS THEREOF
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임성갑 | ko |
| dc.contributor.author | 박용천 | ko |
| dc.contributor.author | 정기훈 | ko |
| dc.contributor.author | 이창현 | ko |
| dc.contributor.author | 김유손 | ko |
| dc.contributor.author | 이유진 | ko |
| dc.date.accessioned | 2021-06-22T04:50:23Z | - |
| dc.date.available | 2021-06-22T04:50:23Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/286082 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 기상 증착공정을 이용한 갭필링 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 개시제를 사용하는 화학 기상 증착(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD) 공정을 이용하여 패턴 상에 고분자(polymer)를 증착하여 갭필링(gap filling)을 통해 상기 패턴을 평탄화하는 단계를 포함한다. | - |
| dc.title | 기상 증착공정을 이용한 갭필링 방법 및 그 장치 | - |
| dc.title.alternative | GAP FILLING METHOD USING VAPOR DEPOSITION PROCESS AND THE APPARATUS THEREOF | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 임성갑 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2019-0121332 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2264997-0000 | - |
| dc.date.application | 2019-10-01 | - |
| dc.date.registration | 2021-06-09 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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