DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 김신현 | ko |
dc.contributor.author | 이승열 | ko |
dc.contributor.author | 이준석 | ko |
dc.date.accessioned | 2021-06-14T02:50:27Z | - |
dc.date.available | 2021-06-14T02:50:27Z | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/285820 | - |
dc.description.abstract | 변형 속도가 상이한 2개 이상의 영역을 포함하는 역오팔 광학 구조체를 측정 대상 환경에 노출시키는 단계; 및 상기 환경 노출 전후로 상기 2개 이상의 영역 중 최소한 2개 영역의 변형 정도에 관한 정보를 획득하는 단계;를 포함하는 열 조건 기록방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에서 제공되는 열 조건 기록방법은 온도 및 지속시간에 관한 정보를 모두 얻을 수 있고, 이러한 정보를 비교적 간단히 얻을 수 있는 효과가 있다. | - |
dc.title | 역오팔 광학 구조체를 이용한 열 조건 기록방법 및 열 조건 기록 시스템 | - |
dc.title.alternative | Thermal Condition Recording Method and Thermal Condition Recording System Using Inverse Opal Optical Structure | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 김신현 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 이승열 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 이준석 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2019-0136757 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2265009-0000 | - |
dc.date.application | 2019-10-30 | - |
dc.date.registration | 2021-06-09 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.