마이크로미터 이하의 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법 및 장치LOW-TEMPERATURE SPIN-COATING PROCESS METHOD AND APPARATUS FOR PATTERNING A FILM UNDER MICROMETER
본 발명은 유무기 하이브리드 물질을 이용한 용액 공정으로 마이크로미터 이하의 필름 패터닝을 실현하는 저온 스핀코팅 공정 방법 및 장치에 관한 것으로, 친수성막 기판을 제작하는 단계, 상기 친수성막 기판을 패터닝하는 단계, 상기 패터닝된 친수성막의 부분 영역에 소수성막을 코팅하여 가이드 기판을 제작하는 단계 및 상기 가이드 기판 상에 유무기 하이브리드 물질을 저온 스핀코팅하는 단계를 포함한다.
- Assignee
- 한국과학기술원,고려대학교 산학협력단
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2019-05-02
- Application Number
- 10-2019-0051425
- Registration Date
- 2021-04-19
- Registration Number
- 10-2244053-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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