선택적 표면처리가 가능한 선형 플라즈마 발생 장치Linear type plasma source for selective surface treatment
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임유봉 | ko |
| dc.contributor.author | 최원호 | ko |
| dc.date.accessioned | 2021-02-15T08:30:31Z | - |
| dc.date.available | 2021-02-15T08:30:31Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/280730 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 유전체 장벽 방전 장치를 제공한다. 유전체 장벽 방전 장치는 제1 방향으로 연장되는 함몰부위를 포함하고 전기적으로 접지된 접지 전극; 상기 접지 전극의 상기 함몰부위에 매몰되어 배치되고 그 일부가 외부로 노출되고 교류 전압이 인가되고 상기 제1 방향으로 연장되는 전력 전극; 상기 전력 전극과 접촉하여 상기 전력 전극의 노출부위를 감싸도록 배치되고 상기 제1 방향으로 연장되는 유전체 장벽부; 및 상기 제1 방향으로 연장되고 피처리물과 상기 전력 전극의 상기 노출 부위가 서로 마주보는 제1 영역에 배치되어 공간적으로 플라즈마 밀도를 제어하여 상기 피처리물을 상기 제1 방향의 위치에 따라 선택적으로 플라즈마 처리하는 마스크부를 포함한다. | - |
| dc.title | 선택적 표면처리가 가능한 선형 플라즈마 발생 장치 | - |
| dc.title.alternative | Linear type plasma source for selective surface treatment | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 최원호 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 임유봉 | - |
| dc.contributor.assignee | 주식회사 플라즈맵 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2016-0012699 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1774816-0000 | - |
| dc.date.application | 2016-02-02 | - |
| dc.date.registration | 2017-08-30 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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