아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용한 초소수성 및 초발유성 표면체의 제조방법Method of Body Having Robust Superomniphobic Surfaces By Using Localized Photofluidization of Azobenzene-Containing Polymer

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dc.contributor.author김희탁ko
dc.contributor.author김신현ko
dc.contributor.author최재호ko
dc.date.accessioned2019-12-23T09:20:33Z-
dc.date.available2019-12-23T09:20:33Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/270342-
dc.description.abstract본 발명은 초소수성 및 초발유성 표면체의 제조방법에 관한 것으로서, 아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용함으로써 헥산과 같이 매우 낮은 표면에너지를 갖는 액체에 대해서도 초발수/초발유 특성을 띄게 할 뿐만 아니라, 이중요각 구조체의 제작 공정의 효율성, 구부러진 표면에서의 발수/발유 특성 구현, 물질의 경제성 등 초발수/초발유 표면의 상용화가 가능한 효과가 있어 얼룩 방지 섬유 또는 외장재, 생물오손방지 의료용 튜브, 저항력 감소효과가 있는 수로 파이프 또는 배의 갑판 등에 유용하게 적용할 수 있는 저가의 대면적 초소수성 및 초발유성 표면체를 제조하는 방법에 관한 것이다.-
dc.title아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용한 초소수성 및 초발유성 표면체의 제조방법-
dc.title.alternativeMethod of Body Having Robust Superomniphobic Surfaces By Using Localized Photofluidization of Azobenzene-Containing Polymer-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor김희탁-
dc.contributor.localauthor김신현-
dc.contributor.nonIdAuthor최재호-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2017-0182556-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2054856-0000-
dc.date.application2017-12-28-
dc.date.registration2019-12-05-
dc.publisher.countryKO-
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