개시제를 이용한 화학 기상 증착법을 이용한 고분자 감압 접착제의 제조방법Method of Preparing Polymer Pressure Sensitive Adhesives Using Initiated Chemical Vapor Deposition
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 임성갑 | ko |
| dc.contributor.author | 주문규 | ko |
| dc.contributor.author | 곽무진 | ko |
| dc.contributor.author | 문희연 | ko |
| dc.date.accessioned | 2019-11-08T04:20:15Z | - |
| dc.date.available | 2019-11-08T04:20:15Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/268266 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 이용하여 친핵체 단량체와 친전자체 단량체 및 개시제를 연쇄 중합 반응 시켜 얇은 두께에서도 다양한 기재에 대한 우수한 접착력 및 다양한 조건에서의 우수한 저항성을 가지는 고분자 감압 접착제를 제조하는 방법을 제공하는데에 있다. | - |
| dc.title | 개시제를 이용한 화학 기상 증착법을 이용한 고분자 감압 접착제의 제조방법 | - |
| dc.title.alternative | Method of Preparing Polymer Pressure Sensitive Adhesives Using Initiated Chemical Vapor Deposition | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 임성갑 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 주문규 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 곽무진 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 문희연 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2017-0143041 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2037335-0000 | - |
| dc.date.application | 2017-10-31 | - |
| dc.date.registration | 2019-10-22 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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