DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 홍순형 | ko |
dc.contributor.author | 김준희 | ko |
dc.contributor.author | 이준호 | ko |
dc.date.accessioned | 2019-09-23T01:20:14Z | - |
dc.date.available | 2019-09-23T01:20:14Z | - |
dc.date.issued | 2019-09-17 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/267623 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은, 레이저 기반의 화학기상증착(CVD) 공정을 이용해 회로 기판을 수리하는 공정에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르는 회로 수리 방법은, 결함이 형성된 회로 기판을 준비하는 단계; 상기 회로 기판 상에 탄소층을 형성하는 단계; 상기 회로 기판 상의 탄소층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 탄소층 및 금속층이 증착된 회로 기판에 레이저를 조사하는 단계;를 포함한다. | - |
dc.title | 레이저 기반 화학기상증착 공정으로 합성된 탄소나노물질을 이용한 회로 수리 방법 | - |
dc.title.alternative | CIRCUIT REPAIR METHOD VIA CARBON NANOMATERIAL SYNTHESIZED BY LASER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 홍순형 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 김준희 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2018-0008321 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2024458-0000 | - |
dc.date.application | 2018-01-23 | - |
dc.date.registration | 2019-09-17 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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