레이저 기반 화학기상증착 공정으로 합성된 탄소나노물질을 이용한 회로 수리 방법CIRCUIT REPAIR METHOD VIA CARBON NANOMATERIAL SYNTHESIZED BY LASER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

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dc.contributor.author홍순형ko
dc.contributor.author김준희ko
dc.contributor.author이준호ko
dc.date.accessioned2019-09-23T01:20:14Z-
dc.date.available2019-09-23T01:20:14Z-
dc.date.issued2019-09-17-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/267623-
dc.description.abstract본 발명은, 레이저 기반의 화학기상증착(CVD) 공정을 이용해 회로 기판을 수리하는 공정에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르는 회로 수리 방법은, 결함이 형성된 회로 기판을 준비하는 단계; 상기 회로 기판 상에 탄소층을 형성하는 단계; 상기 회로 기판 상의 탄소층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 탄소층 및 금속층이 증착된 회로 기판에 레이저를 조사하는 단계;를 포함한다.-
dc.title레이저 기반 화학기상증착 공정으로 합성된 탄소나노물질을 이용한 회로 수리 방법-
dc.title.alternativeCIRCUIT REPAIR METHOD VIA CARBON NANOMATERIAL SYNTHESIZED BY LASER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor홍순형-
dc.contributor.nonIdAuthor김준희-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2018-0008321-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-2024458-0000-
dc.date.application2018-01-23-
dc.date.registration2019-09-17-
dc.publisher.countryKO-
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MS-Patent(특허)
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