이격구조의 저차원 나노물질층을 포함하는 복합 구조체 및 그의 제조 방법COMPLEX STRUCTURES INCLUDING LOW­DIMENSIONAL NANOMATERIAL LAYER OF SUSPENDING STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

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dc.contributor.author정연식ko
dc.contributor.author임순민ko
dc.contributor.author임훈희ko
dc.contributor.author이건호ko
dc.date.accessioned2019-05-15T13:33:56Z-
dc.date.available2019-05-15T13:33:56Z-
dc.date.issued2019-05-02-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/261981-
dc.description.abstract본 발명은 나노 구조체에 의해 기판으로부터 이격되어 형성되는 저차원 나노물질층을 포함하는 복합 구조체 및 그의 제조 방법에 관한 것으로서, 나노 구조체 상부에 1차원 또는 2차원의 저차원 나노물질을 전사하여 에너지적 및 기계적으로 안정된 이격구조(Suspending structure)의 저차원 나노물질층을 제조할 수 있다.-
dc.title이격구조의 저차원 나노물질층을 포함하는 복합 구조체 및 그의 제조 방법-
dc.title.alternativeCOMPLEX STRUCTURES INCLUDING LOW­DIMENSIONAL NANOMATERIAL LAYER OF SUSPENDING STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor정연식-
dc.contributor.nonIdAuthor임순민-
dc.contributor.nonIdAuthor임훈희-
dc.contributor.nonIdAuthor이건호-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2017-0043621-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1976919-0000-
dc.date.application2017-04-04-
dc.date.registration2019-05-02-
dc.publisher.countryKO-
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MS-Patent(특허)
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