직접적 임프린팅용 탄성체 몰드 및 이를 이용한 전극 제조 방법

Abstract

본 발명은 직접적 임프린팅용 탄성체 몰드 및 이를 이용한 전극 제조 방법에 관한 것으로, 탄성체 몰드에 전극 패턴 부분과, 전극 패턴 부분의 가장자리를 따라 저장조 패턴을 음각지게 형성하고, 전극 패턴 부분 대비 저장조 패턴 부분의 과도 변형으로 인한 상당한 부피 감소가 발생하고 저장조 패턴 내부에 유입된 전극 잉크를 전극 패턴 내부로 이동시킬 수 있도록 함으로써, 전극 패턴 내부의 전극 잉크 채워짐을 향상시켜 저비용, 높은 생산성, 높은 성능을 가진 금속 투명 전극의 제작을 가능하도록 하고, 금속 투명 전극 구조물의 높이를 증가시켜 동일한 투과도 대비 면저항을 상당히 낮출 수 있는 효과를 갖는다.