DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 전덕영 | ko |
dc.contributor.author | 정연식 | ko |
dc.contributor.author | 김경목 | ko |
dc.contributor.author | 심동민 | ko |
dc.date.accessioned | 2019-04-15T16:41:10Z | - |
dc.date.available | 2019-04-15T16:41:10Z | - |
dc.date.issued | 2018-06-01 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/256145 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 레이저 유도 어닐링을 이용한 양자점 나노구조체 제조 방법 및 양자점 패턴 제조 방법 및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점에 관한 것으로, 양자점을 준비하고, 블록공중합체를 준비하고, 상기 양자점과 상기 블록공중합체가 화학적으로 결합하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을 형성하고, 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을 기재에 도포하여 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점 필름을 형성하고, 상기 필름을 어닐링하여 상기 블록공중합체-결합(conjugated) 양자점이 자기조립현상(self-as주사전자현미경bly)을 통해 양자점 나노구조체를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지고, 상기 어닐링은 상기 필름에 레이저 조사를 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노구조체 제조 방법을 제공한다. | - |
dc.title | 양자점 나노구조체 제조 방법 및 양자점 패턴 제조 방법 및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점 | - |
dc.title.alternative | manufacturing method of quantum dot nanostructure and quantum dot pattern | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 전덕영 | - |
dc.contributor.localauthor | 정연식 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 김경목 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 심동민 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2016-0133624 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1865647-0000 | - |
dc.date.application | 2016-10-14 | - |
dc.date.registration | 2018-06-01 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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