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ECR PECVD (Electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapour deposition)로 증착한 비정질과 미세결정 실리콘의 특성연구 = Properties of amorphous silicon and microcrystalline silicon deposited by ECR PECVDlink 이경언; Lee, Keong-Eoun; et al, 한국과학기술원, 1997 |
플라즈마 화학 증착법으로 제작한 미세 결정 규소 박막의 특성에 관한 연구 = Charaterization of microcrystalline silicon films drepared by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 최광열; Choi, Kwang-Yeol; 신성철; 이주천; et al, 한국과학기술원, 1996 |
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