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Molecular and polymeric resists for deep UV lithography = Deep UV 리소그라피용 분자 및 고분자 레지스트에 관한 연구link Ganesan, Ramakrishnan; 가네산, 라마크리시난; Kim, Jin-Beak; 김진백, 한국과학기술원, 2006 | |
New materials for organic light emitting diodes and new matrix system for next generation photoresist = 유기 전기 발광 재료 및 차세대 포토레지스트 재료에 관한 연구link Park, Ji-Young; 박지영; Kim, Jin-Baek; 김진백, 한국과학기술원, 2008 | |
Synthesis and application of polymers for 193-nm photoresists = 193-nm 포토레지스트용 고분자의 합성 및 응용link Lee, Jae-Jun; 이재준; Kim, Jin-Baek; 김진백, 한국과학기술원, 2002 |
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