비냉각형 적외선 센서용 감지막 형성방법과 그에 따라 형성된 비냉각형 적외선 센서용 감지막 및 비냉각형 적외선 센서 제조방법과 그에 따라 제조된 적외선 센서FORMING METHOD OF SENSING FILM FOR UNCOOLED TYPE INFRARED SENSOR, SENSING FILM FORMED BY THE METHOD, MANUFACTURING METHOD OF UNCOOLED TYPE INFRARED SENSOR AND UNCOOLED TYPE INFRARED SENSOR MANUFACTURED BY THE METHOD

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본 발명은 비냉각형 적외선 센서용 감지막 형성방법에 관한 것으로, 비냉각형 적외선 센서에서 적외선을 감지하는 감지막을 형성하는 방법으로서, 비정질 실리콘막을 형성하는 비정질막 형성 단계; 및 비정질 실리콘막을 400℃이하의 온도 범위에서 열처리하여 결정질화하는 결정질화 단계를 포함하며, 상기 결정질화 단계가 400℃이하의 온도 범위에서 수행될 수 있도록, 전이금속 촉매층을 형성하는 촉매 형성 단계를 상기 비정질막 형성 단계의 전 또는 후에 더 수행하고, 상기 결정질화 단계는 전이금속 촉매층이 접하는 비정질 실리콘막에 대하여 수행되는 것을 특징으로 한다. 본 발명은, 비정질 실리콘막을 저온에서 결정화함으로써, 비냉각형 적외선 센서용 감지막으로 감도와 성능이 향상된 결정질 실리콘막을 제공할 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 기존의 CMOS 제조공정과 호환이 가능한 장점이 있으며, 특정한 기술적 노드에 국한되지 않고 마이크로볼로미터 형의 구조체로 형성되는 거의 모든 종류 및 기술적 노드에 적용할 수 있는 기술인 점에서 뛰어난 효과가 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2019-03-13
Application Date
2018-02-27
Application Number
10-2018-0023871
Registration Date
2019-03-13
Registration Number
10-1959754-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/254016
Appears in Collection
RIMS Patents
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