나노미터 또는 그 이하 사이즈의 패턴 형성방법Method for Fabricating a Patterned Array HavingNanometer or Less Size

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본 발명은 기판(substrate) 상에 유기분자 박막을 형성시킨 다음, 열처리에 의해 유기분자들의 자기조립(self-assembly)을 유도하고, 이에 따라 형성된 일정한 구조에 선택적으로 금속을 화학흡착(stanning)시킨 후, 에칭(etching)하는 단계를 포함하는 나노미터 또는 그 이하 사이즈의 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노패턴은 기록소자, 탄소나노튜브 제조용 주형(template), 새로운 나노패턴의 형성을 위한 마스크, 분리용 막의 소재 개발 등에 유용하게 활용될 수 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2006-01-24
Application Date
2003-05-22
Application Number
10-2003-0032514
Registration Date
2006-01-24
Registration Number
10-0548017-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/237001
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
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