광학창을 사용하지 않는 광여기 공정 장치 및 방법

Abstract

광여기 공정에 있어서 광원 표면의 흐림이나 광학창의 흐림 문제를 해결하는 장치와 방법에 관해 개시하고 있다. 본 발명의 광여기 장치는, 진공배기가 가능한 반응실의 상판부에 밀착 설치된 광원으로부터 방출된 빛이 반응실 내의 반응가스를 분해하여 기판 표면에 대해 광화학기상증착, 산화, 에칭, 어닐링, 표면 개질 및 세정공정을 행하는 것으로서, 빛이 방출되는 광원 표면의 흐림을 방지하기 위하여 두루말이 형태로 감긴 얇은 내열성 투명 필름(transparent film)을 광원과 기판사이의 반응실 내부 공간에 수평으로 펼쳐 설치하여 박막증착 시에는 광원과 투명 필름 사이의 공간에 반응가스가 접근하지 못하도록 광원과 투명 필름 사이의 공간을 기계적인 방법으로 밀폐시킴으로써 광원 표면의 흐림을 방지하도록 고안되어 있다. 본 발명에 따르면, 광원으로부터 방출된 빛을 유효하게 활용할 수 있을 뿐 아니라 기존의 장치보다 가동효율이 월등히 향상된 광여기 공정 장치를 구현할 수 있다.광여기, 광화학기상증착, 광학창, 흐림, 내열성, 투명필름, 진공자외선