직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로 제조방법

Abstract

본 발명은 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로 제조방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 굴절율의 조정이 가능하고, 다른 유전 영역 사이에서 매끄러운 굴절률 분포를 갖는 광도파로를 클래드층의 형성과정과 코어층의 식각과정이 불필요하여 공정을 단순화는 광도파로용 재료 및 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 광조사에 의하여 굴절률 또는 부피가 변화되는 광민감성 하이브리드재료를 10 마이크론 이상 두께로 코팅하는 단계와, 코팅된 광도파로의 소정영역에 광을 조사하여 광조사부위의 굴절률 변화로 인한 직접 멀티모드 광도파로를 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 별도로 광도파로의 클래드층의 형성과정과 코어층의 식각 공정이 불필요하여 공정을 단축할 수 있을 뿐만 아니라, 광특성 및 안정성이 우수한 재료로 광손실이 적으면서 10 마이크론 이상 크기의 구조를 갖는 멀티모드 광도파로를 제조할 수 있게 된다.