본 발명은 평판형 광도파로의 제조방법으로서, 광감응성 광화학 단위체가 균일하게 도핑된 무기-유기 매트릭스를 포함하는 광도파로를 하부 클래드층의 상부에 코팅하는 단계와, 코팅된 광도파로의 소정 영역에 상기 도핑된 광화학 단위체를 고정하기 위해 선택된 소정 범위의 파장을 가지는 광을 조사하는 단계와, 광에 노출되지 않은 단위체를 제거하고 막을 경화하기 위해 광도파로를 가열하는 단계를 포함하는 평판형 광도파로의 제조방법을 포함한다.상기 구성에 의하면 별도로 광도파로의 식각 공정을 필요로 하지 않으므로 많은 수의 제조 단계를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 광손실이 적은 평판형 광도파로를 제조할 수 있게 된다.