고분자의 방향성 광유체화 현상을 이용한 패턴화된 미세 구조체 제작방법Method for fabrication of patterned micro/nano architectures by means of directional photofluidization of polymer
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 박정기 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T12:43:03Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T12:43:03Z | - |
| dc.date.issued | 2012-04-05 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/236287 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 고분자의 방향성 광유체화 현상을 이용한 패턴화된 미세 구조체 제작방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 미세패턴을 포함하는 고무몰드와 기판을 접착시켜 미세 유체 소자를 제작하는 단계, 상기 미세 유체 소자에 고분자 용액을 주입하는 단계, 고분자를 건조시켜 미세 유체관의 패턴에 따라 고분자 선 어레이를 제작하는 단계, 빛의 조사에 의해 방향성 광유체화 현상을 유도하여 미세 구조체 어레이의 모양 및 크기를 제어하는 단계, 방향성 광유체화로 구조가 제어된 고분자 어레이 위에 금속을 도포하고 고분자를 선택적으로 제거하여 고분자 모양과 같이 미세 구조체 어레이를 전사하는 단계를 포함하는 미세 구조체 어레이 제작방법으로 구성된다.본 발명은 빛의 편광에 의해서 유체화 방향이 결정되고 빛의 조사 시간에 따라서 유체화에 의한 변형 정도가 달라지는 성질 즉, 방향성 광유체화 현상을 갖는 고분자 어레이 형틀의 모양과 크기를 정밀하게 제어하고 이렇게 제어된 형틀을 전사함으로써 규칙적으로 배열된 모양과 크기가 다양한 미세 구조체를 대면적으로 제작할 수 있다. | - |
| dc.title | 고분자의 방향성 광유체화 현상을 이용한 패턴화된 미세 구조체 제작방법 | - |
| dc.title.alternative | Method for fabrication of patterned micro/nano architectures by means of directional photofluidization of polymer | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 박정기 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0124842 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1135921-0000 | - |
| dc.date.application | 2009-12-15 | - |
| dc.date.registration | 2012-04-05 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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