전해 에칭을 위한 가공물 세척방법Cleaning method of workpiece for electrochemicaletching
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김수현 | ko |
| dc.contributor.author | 임영모 | ko |
| dc.contributor.author | 임형준 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T12:25:25Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T12:25:25Z | - |
| dc.date.issued | 2003-01-23 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/235744 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 전해 에칭을 수행하는 동안 균일한 가공 형상을 얻기 위하여 가공대상물의 표면을 세척하는 방법에 관한 것으로, 특히 전해 에칭을 수행하는 동안 순간적인 전위차의 변화로 발생하는 수소기포를 이용한 전해 에칭 가공물 세척 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 전극과 음극을 전해액 속에서 전해 가공하는 도중에 세척을 수행하기 위한 방법으로서,전해 가공중인 전극에 순간적인 전위차의 변화를 준 후 소정의 시간동안 전극의 위치를 전해액 속에 유지시켜 기포를 발생시키는 단계와;기포 발생이 완료되면 전극을 전해액 수면위로 이동시켜 수 초간 대기하여 전극에 부착된 기포를 제거하는 단계를 전해 가공중 적어도 1회 포함하여 가공물의 세척이 수행되는 것을 특징으로 한다.전해가공, 에칭, 전극, 기포, 전해액, 전극세척 | - |
| dc.title | 전해 에칭을 위한 가공물 세척방법 | - |
| dc.title.alternative | Cleaning method of workpiece for electrochemicaletching | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김수현 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 임영모 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 임형준 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2000-0060088 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0371311-0000 | - |
| dc.date.application | 2000-10-12 | - |
| dc.date.registration | 2003-01-23 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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