플라즈마 장치 및 기판 처리 장치Plasma generation apparatus and substrate processing apparatus
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 이진원 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T12:01:46Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T12:01:46Z | - |
| dc.date.issued | 2013-03-15 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/235273 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다. | - |
| dc.title | 플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 | - |
| dc.title.alternative | Plasma generation apparatus and substrate processing apparatus | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이진원 | - |
| dc.contributor.assignee | 주식회사 윈텔,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0104792 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1246191-0000 | - |
| dc.date.application | 2011-10-13 | - |
| dc.date.registration | 2013-03-15 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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