패턴형성방법METHOD FOR FABRICATING PATTERN

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본 발명은 패턴형성방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 패턴형성방법은, 소정의 패턴이 형성되어 있는 몰드 표면에 소수성 박막층을 형성하는 제1 단계, 소수성 박막층과 기판을 접촉시키는 제2 단계, 소수성 박막층과 기판을 대전시키는 제3 단계, 소수성 박막층과 기판 사이에 패턴재료를 공급하여, 패턴재료가 모세관 현상 및 전기 이동의 힘(electrophoretic force)에 의하여 소수성 박막층과 기판 사이에 충진되는 제4 단계, 소수성 박막층과 기판을 떼어내는 제5 단계를 포함하고, 제1 단계에서 형성되는 소수성 박막층은, 소정의 패턴이 형성된 몰드 표면 상에 소수성 자기조립 단분자막처리하여 형성되는 자기조립 단분자막(Self-Assembly Monolayer)이고, 소수성 박막층이 소프트 몰드를 사용하여 형성된 경우에는 기판을 하드기판으로 사용하고, 소수성 박막층이 하드 몰드를 사용하여 형성된 경우에는 기판을 소프트 기판으로 사용한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2011-11-02
Application Date
2009-08-06
Application Number
10-2009-0072292
Registration Date
2011-11-02
Registration Number
10-1081328-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/234842
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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