패턴 전사 방법 및 패턴 전사 시스템METHOD AND SYSTEM FOR TRANSFERRING PATTERN

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본 발명은 패턴 전사 방법 및 패턴 전사 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 패턴 전사 방법은, 투명 플레이트의 하면에, 광을 흡수하여 열을 발생시키는 광열변환층 및 전사재료를 증착시킨 전사재료층을 차례로 형성하는 제1 단계, 투명 플레이트의 하면과 기판을 서로 맞대어 압착하여 패턴 전사 플레이트를 형성하는 제2 단계, 투명 플레이트의 상면에, 광원으로부터의 레이저 광을 직접 투사시킨 직사광 및 레이저 광을 반사체에 반사시킨 반사광을 함께 조사하여 광 간섭을 발생시켜, 광 간섭이 발생한 지점에 증착되어 있는 전사재료를 기판 상으로 전사하는 제3 단계를 포함하고, 패턴 전사 플레이트는, 반사체의 외주변 중 레이저 광이 반사되는 방향 측의 일변과 직각으로 연결되어 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2011-11-01
Application Date
2008-10-08
Application Number
10-2008-0098810
Registration Date
2011-11-01
Registration Number
10-1080672-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/234836
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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