포토레지스트 구조물을 갖는 미세 구조체 및 그 제조방법MICROSTRUCTURE HAVING PHOTORESIST STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
본 발명에 의한 미세 구조체의 제조방법은, 제 1 구성층을 준비하는 단계와, 제 1 구성층에 포토레지스트층을 적층하여 포토레지스트 기판을 형성하는 단계와, 포토레지스트 기판을 패턴이 형성되어 있는 마스크를 이용하여 패턴에 따라 노광하는 단계와, 포토레지스트 기판을 현상하는 단계를 포함한다. 본 발명은 패턴 전사를 위해 구성층 위에 도포하던 종래의 개념에서 벗어나 포토레지스트를 최종 미세 구조체를 구성하는 구조물로 활용함으로써, 패터닝 및 식각에 필요한 시간을 획기적으로 단축할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2011-08-31
- Application Date
- 2009-02-03
- Application Number
- 10-2009-0008274
- Registration Date
- 2011-08-31
- Registration Number
- 10-1062691-0000
- Appears in Collection
- ME-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.