응축 및 증발을 이용한 나노미터 입자의 균일 하전장치Thin Film Coating Unit by Slit Nozzle EletrohydorstaticInjection and Method Thereof
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김상수 | ko |
| dc.contributor.author | 최영주 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:45:20Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:45:20Z | - |
| dc.date.issued | 2007-07-26 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234651 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 응축 및 증발을 이용한 나노미터 입자의 균일 하전장치에 관한 것으로, 응축유체가 포화 증기화되어 일측으로 유입되는 나노미터 크기의 입자와 혼재되도록 하부에 응축유체가 담긴 포화용기; 상기 입자가 냉각에 따른 응축으로 성장될 수 있도록 구비되는 냉각부; 상기 입자가 상기 냉각부로 이동될 수 있도록 일단은 상기 포화용기에 연결되고, 상기 입자의 이동 경로상으로 타측의 외주연에는 상기 냉각부가 밀착/설치되는 연결관; 상기 입자의 이동경로 내에 이온을 발생시켜 상기 입자가 하전될 수 있도록 상기 연결관의 타측에 관통/설치되는 하전부; 및 상기 이온과 혼재된 상기 입자가 증발되어 초기 크기화 될 수 있도록 상기 연결관의 타단에 연결되는 증발기;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. | - |
| dc.title | 응축 및 증발을 이용한 나노미터 입자의 균일 하전장치 | - |
| dc.title.alternative | Thin Film Coating Unit by Slit Nozzle EletrohydorstaticInjection and Method Thereof | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김상수 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 최영주 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2005-0087833 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0745155-0000 | - |
| dc.date.application | 2005-09-21 | - |
| dc.date.registration | 2007-07-26 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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