플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치Gas supply enhancement using the shower head and ground shape of the multi-electode
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 서상훈 | ko |
| dc.contributor.author | 이윤성 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:37:05Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:37:05Z | - |
| dc.date.issued | 2013-03-19 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234374 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다. | - |
| dc.title | 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 | - |
| dc.title.alternative | Gas supply enhancement using the shower head and ground shape of the multi-electode | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이윤성 | - |
| dc.contributor.assignee | 주성엔지니어링(주),한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0032636 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1247103-0000 | - |
| dc.date.application | 2011-04-08 | - |
| dc.date.registration | 2013-03-19 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.