DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 정희태 | ko |
dc.contributor.author | 박종민 | ko |
dc.contributor.author | 공병선 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:33:06Z | - |
dc.date.available | 2017-12-20T11:33:06Z | - |
dc.date.issued | 2013-10-31 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234261 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 알릴기가 함유된 실란 화합물 및 기공형성 물질을 플라즈마 화학증착시켜 제조되는 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저유전 박막의 제조방법은 선형 또는 비선형 형태의 유·무기 전구체를 이용하여 종래에 비해 유전상수가 월등히 낮은 동시에 열적으로 안정한 저유전 박막을 제조할 수 있고, 스핀 캐스팅법에서 발생되는 전·후 처리에 대한 복잡한 공정을 줄일 수 있으며, 열처리와 같은 과정을 통하여 박막의 유전상수 및 기계적 특성을 개선시켜 반도체 장치 제조 등에 유용하게 이용할 수 있는 효과가 있다. | - |
dc.title | 저유전 박막 및 그 제조방법 | - |
dc.title.alternative | Low Dielectric Thin Films and Method for Preparing the Same | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 정희태 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 박종민 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 공병선 | - |
dc.contributor.assignee | 주식회사 케이씨씨,한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0018455 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1326254-0000 | - |
dc.date.application | 2011-03-02 | - |
dc.date.registration | 2013-10-31 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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