저유전 박막 및 그 제조방법Low Dielectric Thin Films and Method for Preparing the Same

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 252
  • Download : 0
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.author정희태ko
dc.contributor.author박종민ko
dc.contributor.author공병선ko
dc.date.accessioned2017-12-20T11:33:06Z-
dc.date.available2017-12-20T11:33:06Z-
dc.date.issued2013-10-31-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/234261-
dc.description.abstract본 발명은 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 알릴기가 함유된 실란 화합물 및 기공형성 물질을 플라즈마 화학증착시켜 제조되는 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저유전 박막의 제조방법은 선형 또는 비선형 형태의 유·무기 전구체를 이용하여 종래에 비해 유전상수가 월등히 낮은 동시에 열적으로 안정한 저유전 박막을 제조할 수 있고, 스핀 캐스팅법에서 발생되는 전·후 처리에 대한 복잡한 공정을 줄일 수 있으며, 열처리와 같은 과정을 통하여 박막의 유전상수 및 기계적 특성을 개선시켜 반도체 장치 제조 등에 유용하게 이용할 수 있는 효과가 있다.-
dc.title저유전 박막 및 그 제조방법-
dc.title.alternativeLow Dielectric Thin Films and Method for Preparing the Same-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor정희태-
dc.contributor.nonIdAuthor박종민-
dc.contributor.nonIdAuthor공병선-
dc.contributor.assignee주식회사 케이씨씨,한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2011-0018455-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1326254-0000-
dc.date.application2011-03-02-
dc.date.registration2013-10-31-
dc.publisher.countryKO-
Appears in Collection
CBE-Patent(특허)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0