다결정 규소 박막의 제조방법(Fabrication method of polycrystalline silic on thinfilms)

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dc.contributor.author안병태ko
dc.date.accessioned2017-12-20T11:30:50Z-
dc.date.available2017-12-20T11:30:50Z-
dc.date.issued2003-02-05-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/234189-
dc.description.abstract본 발명은 다결정 규소 박막의 제조방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 유리 또는 석영 기판 위에서 비정질 규소 박막을 형성한 후 히터에 의해 기판과 규소 박막을 가열한 상태에서 마이크로파를 가하여 열처리함으로써 비정질 규소 박막을 결정화시키는 다결정 규소 박막을 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 유리 또는 석영 기판에 증착된 비정질 규소 박막을 히터로 먼저 가열한 후 마이크로파를 가함으로써 히터 및 마이크로파에 의한 가열을 병행하여 열처리함으로써 유리 또는 석영 기판에 증착된 비정질 규소박막을 제조하는 것을 특징으로 한다.-
dc.title다결정 규소 박막의 제조방법-
dc.title.alternative(Fabrication method of polycrystalline silic on thinfilms)-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor안병태-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2000-0036539-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-0372753-0000-
dc.date.application2000-06-29-
dc.date.registration2003-02-05-
dc.publisher.countryKO-
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MS-Patent(특허)
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