멤스 디바이스 제조방법Method for making MEMS devices

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dc.contributor.author나노팹ko
dc.contributor.author임성규ko
dc.contributor.author김영수ko
dc.contributor.author김희연ko
dc.contributor.author강민호ko
dc.contributor.author오재섭ko
dc.contributor.author이귀로ko
dc.date.accessioned2017-12-20T11:27:26Z-
dc.date.available2017-12-20T11:27:26Z-
dc.date.issued2013-03-28-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/234060-
dc.description.abstract비정질 탄소막을 희생층으로 이용한 MEMS 디바이스 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 하부 구조물을 형성한다. 상기 하부 구조물 상에 희생층으로서 비정질 탄소막을 형성한다. 상기 비정질 탄소막 상에 센서 구조를 포함하는 상부 구조물을 형성한다. 상기 하부 구조물과 상기 상부 구조물이 서로 이격되어 배치되도록 상기 비정질 탄소막을 제거한다.-
dc.title멤스 디바이스 제조방법-
dc.title.alternativeMethod for making MEMS devices-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor이귀로-
dc.contributor.nonIdAuthor나노팹-
dc.contributor.nonIdAuthor임성규-
dc.contributor.nonIdAuthor김영수-
dc.contributor.nonIdAuthor김희연-
dc.contributor.nonIdAuthor강민호-
dc.contributor.nonIdAuthor오재섭-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2011-0132858-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1250447-0000-
dc.date.application2011-12-12-
dc.date.registration2013-03-28-
dc.publisher.countryKO-
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EE-Patent(특허)
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